[19a-234B-1~9] 6.4 Thin films and New materials

[19a-234B-5] “Ultrahigh-pressure Solid-phase epitaxy” of high-pressure-phase α-PbO₂-type TiO₂ thin films

〇(M2)Yuki Sasahara¹, Hiroaki Asoma¹, Koki Kanatani¹, Ryota Shimizu^1,2, Kazunori Nishio¹, Norimasa Nishiyama³, Taro Hitosugi¹ (1.Tokyo Tech, 2.JST-PRESTO, 3.MSL)

Keywords:high pressure synthesis, epitaxial growth, high-pressure phase

一般に、薄膜成長は減圧環境下で行われる。一方、超高圧下では、常圧下では合成できない物質の作製が可能である。そこで、これまで相反すると思われていた「薄膜成長技術」と「超高圧技術」を組み合わせ、新物質合成することを着想した。本研究では、TiO₂系に着目し、非晶質TiO₂薄膜に対して超高圧印加しながら加熱処理を行うことで、単相の高圧相α-PbO₂型TiO₂のエピタキシャル薄膜作製に成功したので報告する。