2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[19p-133-1~19] 6.1 強誘電体薄膜

2018年9月19日(水) 13:45 〜 19:00 133 (133+134)

山田 智明(名大)、吉村 武(大阪府立大)、恵下 隆(和歌山大)、永沼 博(東北大)

16:30 〜 16:45

[19p-133-11] 非鉛強誘電体厚膜構造に与えるプロトンダメージの検討

山口 正樹1,2、増田 陽一郎3、平出 惇1 (1.芝浦工大工、2.芝浦工大RCGI、3.八戸工大工)

キーワード:強誘電体膜、プロトンビーム照射

高スペクト比加工が期待される収束プロトンビーム照射は,直接パターン描画だけではなく,強誘電体材料の改質効果も期待される.本報告では,プロトンビーム照射により非鉛強誘電体膜に導入されるダメージについて,理論解析を行った結果について述べる.