[19p-133-1~19] 6.1 強誘電体薄膜

[19p-133-9] パルスレーザー堆積法によるFe₂Mo₃O₈エピタキシャル膜の合成

〇毛 司辰¹、片山 司¹、近松 彰¹、安井 伸太郎²、伊藤 満²、長谷川 哲也¹ (1.東大院理、2.東工大)

キーワード：マルチフェロイック、酸化物薄膜、パルスレーザー堆積法

マルチフェロイック材料のFe₂Mo₃O₈(FMO)は大きな電気磁気効果を示すため近年盛んに研究されている。この様なマルチフェロイック材料では単結晶基板上に薄膜として作製することで物性が拡張する期待があるため、本研究では、様々な基板上にFMOエピタキシャル薄膜を作製し、その構造と物性を調べた。結果として、FMO薄膜への引張ひずみと圧縮ひずみの制御と、最安定磁気秩序相及びその転移温度の変化が見られた。