[19p-145-1~15] 12.4 有機EL・トランジスタ

[19p-145-9] 極薄フォトレジストパターンをスペーサーとして利用した有機半導体膜の無溶媒転写形成

〇(DC)大山 惇郎¹、小熊 尚実²、平田 直毅²、市川 結¹ (1.信大繊、2.大日精化)

キーワード：有機半導体、無溶媒プロセス、パターンニング

有機トランジスタを基盤とする電子デバイスのコスト削減と大面積化に向けて印刷プロセスや溶液プロセスが注目されている. しかし半導体の成膜に塩素系溶媒を使用するため人体や環境への影響が危惧される. そこで近年, 溶媒を用いないプロセスの研究が頻繁に行われ, 我々も半導体粉末を疎水性フィルムにより基板へ転写するプロセスを以前, 本学会で報告した. 本講演では半導体粉末を転写パターンニングするプロセスを報告する.