2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-146-1~22] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年9月19日(水) 13:15 〜 19:15 146 (レセプションホール)

ホームズ マーク(東大)、舘林 潤(阪大)、谷川 智之(東北大)

17:45 〜 18:00

[19p-146-17] MBE成長GaNナノワイヤにおけるイエロールミネッセンスの抑制

〇(M1)上杉 智洋1、佐々木 拓生2、高橋 正光1,2 (1.兵庫県立大院物質理、2.量研)

キーワード:ナノワイヤ、窒化ガリウム、フォトルミネッセンス

GaNナノワイヤの発光特性は、これまでバンド端付近(365 nm)の発光に関しては成長条件との相関、イエロールミネッセンスと呼ばれる500~600 nm付近の発光に関しては、ナノワイヤの極性や形状との相関について調べられている。しかし、GaNナノワイヤとGaN薄膜及びGaN基板との発光特性の比較は行われていない。そこで本研究は、RF-MBE法を用いてGaNナノワイヤとGaN薄膜をそれぞれ作製し、PL法を用いて発光特性を比較した。