2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-146-1~22] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年9月19日(水) 13:15 〜 19:15 146 (レセプションホール)

ホームズ マーク(東大)、舘林 潤(阪大)、谷川 智之(東北大)

13:45 〜 14:00

[19p-146-3] サファイア基板に気相成長させたh-BN薄膜の発光ダイナミクス

秩父 重英1、嶋 紘平1、梅原 直己2、小島 一信1、原 和彦3,2 (1.東北大多元研、2.静大創造科学院、3.静大電子研)

キーワード:窒化ボロン、発光機構、発光寿命

h-BNは、間接遷移型半導体でありながら室温で禁制帯幅(約6 eV)に対応する215nm付近に強いバンド端発光を呈すため、深紫外線発光素子材料として期待できる。しかしながら大型バルク単結晶の合成が困難なため、微結晶を用いた研究や異種基板上への結晶成長が進められている。梅原・原らは、減圧CVD法によりサファイアc面上にエピタキシャルh-BN薄膜を成長させ、成長温度・圧力と薄膜の構造的・光学的特性の関係を報告してきた。本講演では、高温CVD成長h-BNエピ膜の発光ダイナミクスについて報告する。