[19p-231A-1~8] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

[19p-231A-8] Effect of Textured Glass Substrates on the Crystallization Mechanism of Electron-Beam-Evaporated Amorphous Si Films Induced by FLA

〇Keisuke Kurata¹, Keisuke Ohdaira¹ (1.JAIST)

Keywords:Flash lamp annealing, silicon, Crystallization

テクスチャ基板上に堆積したEB蒸着a-Si膜に対しFLAを行った際の結晶化機構への影響について調査を行った。ラマンスペクトルのc-Siピークの半値幅から、平坦基板上とRIEを1時間行ったガラス基板上の試料では、過去に報告した爆発的結晶化(EC)が同様に発現していることが確認された。一方、RIEを2時間以上行ったガラス上の試料では、ラマンスペクトルの半値幅から小粒径化が示唆され、ECが発現していないと考えられる。