[19p-231C-1~19] 12.1 Fabrications and Structure Controls

△ [19p-231C-2] Control of surface characteristics by photo chemical reaction and film deposition
on 0.3 nm high-linear atomic stepped PMMA and polyimide sheets

〇(M2)Shiori Yamada¹, Ken Iwasa¹, Tomoaki Oga¹, Satoru Kaneko^1,2, Akifumi Matsuda¹, Mamoru Yoshimoto¹ (1.Tokyo Tech Univ, 2.KISTEC)

Keywords:PMMA, microfabrication, Vacuum UV light

ポリマー基板表面の微細加工技術は、濡れ性など表面物性や薄膜における分子配向性など、表面機能発現と制御への貢献が期待できる。我々のグループではこれまで、微細加工の１つである熱ナノインプリント法により、高さ約0.3 nmの原子ステップ形状を熱可塑性ポリマー表面に転写することに成功している。一方で、低温におけるポリマーの表面プロセスとして、エキシマランプを用いた高エネルギーの深紫外光照射によって、光化学反応が誘起されることが報告されている。本研究では、ポリマー表面の原子レベル形状制御を経た薄膜成長制御とナノデバイスの特性制御を目的として、PMMAやポリイミド基板に対するエキシマ光照射によるシングルナノ・原子レベル形状変化や機能性薄膜ナノ材料堆積に与える影響について検討した。