[19p-231C-1~19] 12.1 作製・構造制御

△ [19p-231C-2] 0.3 nm高さの直線状原子ステップを有するPMMA及びポリイミドシートにおける光化学反応および成膜による表面特性の制御

〇(M2)山田 志織¹、岩佐 健¹、大賀 友瑛¹、金子 智^1,2、松田 晃史¹、吉本 護¹ (1.東工大物質理工、2.神奈川産技総研)

キーワード：PMMA、微細加工、真空紫外光

ポリマー基板表面の微細加工技術は、濡れ性など表面物性や薄膜における分子配向性など、表面機能発現と制御への貢献が期待できる。我々のグループではこれまで、微細加工の１つである熱ナノインプリント法により、高さ約0.3 nmの原子ステップ形状を熱可塑性ポリマー表面に転写することに成功している。一方で、低温におけるポリマーの表面プロセスとして、エキシマランプを用いた高エネルギーの深紫外光照射によって、光化学反応が誘起されることが報告されている。本研究では、ポリマー表面の原子レベル形状制御を経た薄膜成長制御とナノデバイスの特性制御を目的として、PMMAやポリイミド基板に対するエキシマ光照射によるシングルナノ・原子レベル形状変化や機能性薄膜ナノ材料堆積に与える影響について検討した。