2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-234A-1~10] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2018年9月19日(水) 13:30 〜 16:15 234A (234-1)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)、川田 博昭(大阪府立大)

16:00 〜 16:15

[19p-234A-10] マイクロレンズアレイ上へのモスアイ構造の形成

〇(M1)中村 優斗1、谷口 淳1 (1.東理大基礎工)

キーワード:反射防止構造、UVナノインプリントリソグラフィー、マイクロレンズアレイ

近年では、光学レンズの性能は、レンズ表面で生じる反射によって制限される。これにより、反射防止構造の要求が高まっている。本研究では、反転型レプリカモールドを用いてマイクロレンズアレイ上全面に反射防止構造を形成した。また、反射防止構造を形成したマイクロレンズアレイの反射率は波長 550 nm において 0.5 % まで抑制することに成功した。