2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-234A-1~10] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2018年9月19日(水) 13:30 〜 16:15 234A (234-1)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)、川田 博昭(大阪府立大)

15:30 〜 15:45

[19p-234A-8] 高硬度離型剤フリー樹脂による反射防止構造を持ったレプリカモールドの転写耐久特性

〇(M1)川内 惇矢1、谷口 淳1、日和佐 伸2 (1.東京理科大学、2.AUTEX株式会社)

キーワード:UV-NIL、モスアイ構造

新開発の高硬度離型剤フリー樹脂を用いて反射防止構造の1つであるモスアイ構造をもったレプリカモールドを作製した。新開発の樹脂は、従来の離型剤フリー樹脂と比較して高硬度かつ高い撥水性を持つ。本研究において新開発の樹脂は従来の樹脂で作製したモスアイ構造を持ったレプリカモールドと比較して高い転写耐久性を示した。