2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[19p-234B-1~19] 6.4 薄膜新材料

2018年9月19日(水) 13:15 〜 18:30 234B (234-2)

土屋 哲男(産総研)、一杉 太郎(東工大)、村岡 祐治(岡山大)

17:15 〜 17:30

[19p-234B-15] CaH2還元によるNi薄膜のトポタクティック低温合成

野口 裕太郎1、吉松 公平1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工学院、2.元素戦略)

キーワード:低温還元、トポタクティック、薄膜

Niは,単体で強磁性を示したり,酸化物がp型伝導を示したりするように重要な元素といえる.NiとNiOがともにfcc格子をとることに注目すると,金属の骨格を維持したまま相互に転換が可能な数少ない物質である.我々は,高結晶性のNiO薄膜にCaH2還元を適用し,結晶性を維持したままNi薄膜へと転換するトポタクティック低温合成に成功したので報告する.