[19p-234B-1~19] 6.4 Thin films and New materials

△ [19p-234B-17] Fabrication of Zn₃N₂ epitaxial thin films by pulsed laser deposition using sputter-deposited nitride film as targets

〇Masato Tsuchii¹, Yuting Zhu¹, Shoichiro Nakao¹, Yasushi Hirose¹, Yuki Sugisawa², Junichi Kikuda², Daiichiro Sekiba², Tetsuya Hasegawa¹ (1.Univ. of Tokyo, 2.Univ. of Tsukuba)

Keywords:nitride thin films, epitaxial growth, pulsed laser deposition method

従来の遷移金属窒化物薄膜の合成は金属をターゲットとする反応性スパッタ法により行われていた。しかしスパッタ法はスパッタダメージや不純物アルゴン等が問題になることがある。その問題を克服するため、我々は反応性スパッタ法により作製した厚膜をパルスレーザー堆積法のターゲットとして用いるという新しい手法によりZn₃N₂エピタキシャル薄膜の合成に成功した。