[19p-234B-1~19] 6.4 Thin films and New materials

△ [19p-234B-9] Evaluation of photochromic properties in yttrium oxy-hydride epitaxial thin films

〇(M1)Yuya Komatsu¹, Ryota Shimizu^1,2, Kazunori Nishio¹, Masahiro Miyauchi¹, Taro Hitosugi¹ (1.Tokyo Tech, 2.JST-PRESTO)

Keywords:photochromism, yttrium oxy-hydride, epitaxial films

イットリウム酸水素化物(YO_xH_y, 立方晶, a = 5.35 Å)は太陽光照射により可視光透過率および電気抵抗率が低減するフォトクロミック特性を示す。本研究では、反応性マグネトロンスパッタ法によって新規にYO_xH_y(111)エピタキシャル薄膜を作製し、光照射に伴う電気抵抗の変化を調べた。すると、既報の多結晶薄膜に比べて2桁以上大きな抵抗変化を見出したので報告する。