2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » スピントロニクス材料研究の新潮流 ~二次元系を中心に~

[19p-331-1~6] スピントロニクス材料研究の新潮流 ~二次元系を中心に~

2018年9月19日(水) 13:45 〜 17:00 331 (国際会議室)

森山 貴広(京大)、齋藤 秀和(産総研)

15:30 〜 16:00

[19p-331-4] 化合物半導体Cu(In,Ga)Se2を用いた新規磁気トンネル接合の創製と高出力特性

葛西 伸哉1 (1.物材機構)

キーワード:スピントロニクス、磁気トンネル接合

磁気トンネル接合(MTJ)はスピントロニクス応用において最も重要な基盤素子である。現行MTJでは中間障壁層として酸化物絶縁体MgOを用いることで巨大な磁気抵抗比を実現しているが、応用上重要な素子抵抗の低減が難しいという弱点がある。本講演ではカルコパイライト型化合物半導体Cu(In,Ga)Se2(CIGS)を用いたMTJの低抵抗・高出力特性について紹介を行う。