2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料

[19p-431B-1~18] 3.5 レーザー装置・材料

2018年9月19日(水) 13:45 〜 18:45 431B (431-2)

時田 茂樹(阪大)、戸倉川 正樹(電通大)、古瀬 裕章(北見工大)

17:15 〜 17:30

[19p-431B-13] 繰り返しパルス照射による石英ガラスのレーザー損傷の温度依存性

〇(M1)小川 遼1,3、本越 伸二2、吉村 政志3、實野 孝久3、藤岡 加奈3、今西 正幸1、森 勇介1 (1.阪大院工、2.レーザー総研、3.阪大レーザー研)

キーワード:レーザー損傷、紫外光、温度依存性

我々の目的は、繰り返しパルス照射時の光学素子のレーザー損傷機構を明らかにし、その高耐力化を行うことである。本研究では、加熱保持した石英ガラスに対して、ArFエキシマレーザー ( 193nm, 10ns, 繰返し100Hz ) を照射した時の透過率変化を評価した。結果、透過率の低下は、ガラス温度を上げることにより抑制することが分かった。講演では、レーザー損傷しきい値の結果も合わせて報告する。