2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料

[19p-431B-1~18] 3.5 レーザー装置・材料

2018年9月19日(水) 13:45 〜 18:45 431B (431-2)

時田 茂樹(阪大)、戸倉川 正樹(電通大)、古瀬 裕章(北見工大)

18:00 〜 18:15

[19p-431B-16] Cr3+/Nd3+/Yb3+:YAGセラミックス粉体におけるエネルギー移乗過程の解析

〇(M2)村上 太朗1、藤岡 加奈1、本越 伸二2、宮永 憲明2、山本 和久1 (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研)

キーワード:Cr/Nd/Yb:YAG、蛍光寿命、レート方程式

フラッシュランプや太陽光励起によって効率的な近赤外発光が可能なCr/Nd/Yb:YAGセラミックスの研究開発を行っている。本講演では、Cr、Nd、Ybのエネルギー移乗と消光過程の解析について、Cr、Nd、Ybからの蛍光時間波形の実測値とレート方程式からの結果の比較について報告する。