2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料

[19p-431B-1~18] 3.5 レーザー装置・材料

2018年9月19日(水) 13:45 〜 18:45 431B (431-2)

時田 茂樹(阪大)、戸倉川 正樹(電通大)、古瀬 裕章(北見工大)

14:45 〜 15:00

[19p-431B-5] 高出力・高安定な産業用・連続波2.8 μm帯Er:ZBLANファイバーレーザーの開発

〇(PC)上原 日和1、合谷 賢治1、小西 大介2、シェーファー クリスチャン2、村上 政直2、時田 茂樹1 (1.阪大レーザー研、2.三星ダイヤモンド工業(株))

キーワード:中赤外レーザー、ファイバーレーザー、フッ化物ガラス

ガラス端面溶融加工の高速化を可能とする産業用・新規レーザー加工光源として、波長2.8 µmのEr:ZBLANファイバーレーザーの開発を行った。フッ化物ガラス製ファイバー結合器、フッ化物FBG加工、石英/ZBLAN異種ファイバー融着接続等の技術を複合的に駆使し、高出力・高安定なファイバーMOPAシステムの作製に成功した。