2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[19p-436-1~17] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2018年9月19日(水) 13:45 〜 18:45 436 (436)

鵜殿 治彦(茨城大)、寺井 慶和(九工大)、山口 憲司(量研機構)、原 康祐(山梨大)

15:45 〜 16:00

[19p-436-8] OCVD法によるMg2Siフォトダイオードのキャリアライフタイム評価

高橋 史也1、新岡 大介1、鵜殿 治彦1 (1.茨城大)

キーワード:半導体、マグネシウムシリサイド、赤外受光素子