2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[19p-437-1~15] 9.5 新機能材料・新物性

2018年9月19日(水) 13:45 〜 18:00 437 (437)

高瀬 浩一(日大)、香野 淳(福岡大)、生田 博志(名大)

14:00 〜 14:15

[19p-437-2] 電気二重層トランジスタ(EDLT)を用いたゲルマナン薄膜の金属的伝導

山内 遼斗1、佐藤 洋平1、片山 裕美子1、安武 裕輔1、深津 晋1、上野 和紀1 (1.東大院総合)

キーワード:ゲルマナン、電気二重層トランジスタ、金属・絶縁体転移

ゲルマナン(GeH)はGe 単原子層の両面を水素終端した構造を持つ半導体である。本研究では、GeHを用いて電解液をゲート絶縁体として用いる電気二重層トランジスタを作製した。その結果両側動作のトランジスタ動作を示し、さらにキャリア濃度・移動度が得られたので報告する。