2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[19p-CE-5~17] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月19日(水) 15:00 〜 18:45 CE (センチュリーホール)

加藤 正史(名工大)、佐藤 威友(北大)

18:15 〜 18:30

[19p-CE-16] Al2O3/n-, p-GaN構造の光熱偏向分光法による評価

福田 清貴1,2、浅井 祐哉3、関 慶祐4、Sang Liwen1、吉越 章隆5、上殿 明良3、石垣 隆正4、尾沼 猛儀2、山口 智広2、本田 徹2、角谷 正友1 (1.物材機構、2.工学院大、3.筑波大、4.法政大、5.原子力機構)

キーワード:窒化ガリウム、光熱偏向分光法、光電子分光法

本研究では荷電状態によらずバンドギャップ内準位を検出できる光熱偏向分光法(PDS : Photothermal Deflection Spectroscopy)とその場観察による光電子分光を利用してAl2O3を堆積したGaN試料の評価を行ったので報告する。