[19p-PA4-1~27] 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-PA4-6] III 族窒化物二次元原子層膜の構造安定性に関する理論的検討：膜厚依存性

〇秋山 亨¹、坪井 佑磨¹、長谷川 裕也¹、中村 浩次¹、伊藤 智徳¹ (1.三重大院工)

キーワード：半導体、第一原理計算