[19p-PA9-1~7] 22 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」（ポスター）

[19p-PA9-5] SiO2上に形成したGe1-xSnx多結晶薄膜の熱電特性評価

〇今井 志明¹、高橋 恒太^1,2、中塚 理^1,3、財満 鎭明⁴、黒澤 昌志^1,5,6 (1.名大院工、2.JSPS、3.名大未来研、4.名大未来社会創造機構、5.名大高等研究院、6.JSTさきがけ)

キーワード：GeSn