[19p-PB1-1~37] 6.3 Oxide electronics

[19p-PB1-4] Resistance of TiO₂ thin films against Electron Beam irradiation

〇(M1)Kosuke Yoshino¹, Naoki Shimosako¹, Kazunori Shimazaki², Eiji Miyazaki², Hiroshi Sakama¹ (1.Sophia Univ., 2.JAXA)

Keywords:thin films

宇宙環境において、宇宙機で使用されている材料から放出されるガスが自身の汚染源となり、光学系の性能低下を引き起こすことが、知られている^[1]。その汚染除去方法の一つとして、TiO₂光触媒に注目した。使用に際して、宇宙材料を劣化させる種々の宇宙環境に対する耐性を調べる必要がある。先行研究では、原子状酸素がTiO₂薄膜に与える影響を調べた。本研究では、宇宙放射線の一つである電子線（EB）に焦点をあて、TiO₂薄膜に任意の加速電圧によるEBを照射することでどのような変化を生じるのか、様々な測定から評価した。