2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[19p-PB1-1~37] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年9月19日(水) 13:30 〜 15:30 PB (白鳥ホール)

13:30 〜 15:30

[19p-PB1-4] TiO2薄膜の電子線照射に対する耐性

〇(M1)吉野 光祐1、下迫 直樹1、島崎 一紀2、宮崎 英治2、坂間 弘1 (1.上智大、2.JAXA)

キーワード:薄膜

宇宙環境において、宇宙機で使用されている材料から放出されるガスが自身の汚染源となり、光学系の性能低下を引き起こすことが、知られている[1]。その汚染除去方法の一つとして、TiO2光触媒に注目した。使用に際して、宇宙材料を劣化させる種々の宇宙環境に対する耐性を調べる必要がある。先行研究では、原子状酸素がTiO2薄膜に与える影響を調べた。本研究では、宇宙放射線の一つである電子線(EB)に焦点をあて、TiO2薄膜に任意の加速電圧によるEBを照射することでどのような変化を生じるのか、様々な測定から評価した。