2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.5 表面物理・真空

[19p-PB2-1~8] 6.5 表面物理・真空

2018年9月19日(水) 13:30 〜 15:30 PB (白鳥ホール)

13:30 〜 15:30

[19p-PB2-4] 陽極酸化ポーラスアルミナの空孔率変調による多層膜作製 ~先行酸化層の成膜レートに及ぼす影響~

小川 真弥1、川本 清1 (1.八戸工大)

キーワード:光学薄膜、陽極酸化、アルミナ

アルミニウムを陽極酸化することで得られる陽極酸化ポーラスアルミナは、空孔が規則的に並んだ構造をしている。電圧などの作製条件を制御することで空孔率を変え、屈折率などの物性値を制御することが可能だと考えられる。本研究では高い電圧と低い電圧を交互に印加することで、屈折率の低い膜と高い膜を交互に形成させ、ポーラスアルミナのみの単一材料からなる多層膜の作製を行った。