The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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21 Joint Session K » 21 Joint Session K (Poster)

[19p-PB8-1~23] 21 Joint Session K (Poster)

Wed. Sep 19, 2018 4:00 PM - 6:00 PM PB (Shirotori Hall)

4:00 PM - 6:00 PM

[19p-PB8-23] Structure modification of layered Li-Ni-O epitaxial thin films by thermal treatment under uniaxial compression

Shoyo Ito1, Yoshiki Horimatsu1, Nobuo Tsuchimine2, Satoru Kaneko3,1, Akifumi Matsuda1, Mamoru Yoshimoto1 (1.Tokyo Tech. Materials, 2.TOSHIMA Manu. Co., Ltd., 3.KISTECH)

Keywords:layered Li-Ni-O epitaxial thin films, thermal treatment under uniaxial compression, structure modification

LiNiO2は,Li二次電池の正極材料や幾何学的スピンフラストレーションを内包した興味深い系として磁性の観点からも注目されている。LiNiO2のエピタキシャル薄膜の合成とその作製プロセス,構造制御に関する知見は正極材料の劣化機構および電気・磁気特性を解明するうえで有益な情報となる。本研究では,LiNiO2エピタキシャル薄膜の作製と結晶相制御を目的とし,(Li,Ni)Oエピタキシャル薄膜の一軸加圧下熱処理が結晶相に及ぼす影響を検討した。