[20a-212B-1~7] 11.4 アナログ応用および関連技術

△ [20a-212B-4] 高温超伝導膜へのGa-FIB照射によるナノブリッジ作製の検討

〇上田 哲平¹、林 幹二¹、有吉 誠一郎¹、田中 三郎¹ (1.豊橋技科大)

キーワード：ジョセフソン接合、イオン照射、SQUID

高温超伝導SQUIDでは、結晶粒界を用いたバイクリスタル型ジョセフソン接合（JJ）が一般的に用いられている。しかし、バイクリスタル型JJは粒界上にのみ作製可能であるため、設計自由度や配置個数が制限されるなどの課題がある。そこで、低ノイズSQUID作製法として、Ga-FIB照射による欠陥生成を応用したナノブリッジ作製技術を検討した。また、Ga-FIB照射で必須となるSIM観察時の欠陥導入を、Au保護層により防止する手法を検討した。