2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20a-222-1~12] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:15 222 (222)

齋藤 真澄(東芝メモリ)、鶴岡 徹(物材機構)

11:45 〜 12:00

[20a-222-11] 水分を脱離させたAg/Ta2O5/Pt素子のスイッチング動作

〇(M2)棚橋 直哉1、鶴岡 徹2、バロブ イリア3、長谷川 剛1 (1.早大先進理工、2.物材機構、3.ユーリッヒ研究所)

キーワード:抵抗変化メモリ