2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20a-222-1~12] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:15 222 (222)

齋藤 真澄(東芝メモリ)、鶴岡 徹(物材機構)

12:00 〜 12:15

[20a-222-12] 分子膜ギャップ型原子スイッチを用いた確率動作のメカニズム解明

有馬 知里1、鶴岡 徹2、長谷川 剛1 (1.早大先進理工、2.物材機構)

キーワード:抵抗変化メモリ