2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20a-222-1~12] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:15 222 (222)

齋藤 真澄(東芝メモリ)、鶴岡 徹(物材機構)

11:00 〜 11:15

△ [20a-222-8] 合成領域の微細化による高品質 MOF 結晶の選択成長

〇(M1)清水 敦史1,2、木下 健太郎1、中畝 悠介1、島 久2、高橋 慎2、内藤 泰久2、秋永 広幸2 (1.東理大理、2.産総研)

キーワード：金属有機構造体、微細加工、メモリー