The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[20a-222-1~12] 6.3 Oxide electronics

Thu. Sep 20, 2018 9:00 AM - 12:15 PM 222 (222)

Masumi Saitoh(Toshiba Memory), Tohru Tsuruoka(NIMS)

11:15 AM - 11:30 AM

[20a-222-9] Development of Photoemission Electron microscopy enabling non-destructive nanoimaging of chemical state

〇(M1)Yuji Okuda1,2,3, Junpei kawakita2,3, Toshiyuki Taniuchi2,3, Hisashi shima2,4, Atsushi Shimizu1,4, Yasuhisa Naitoh2,4, Hiro Akinaga2,4, kentaro kinoshita1, Shink Shin2,3 (1.Tokyo Univ. of Sci., 2.AIST-UTokyo OIL, 3.ISSP Univ. Tokyo, 4.NeRI-AIST)

Keywords:PEEM, memory, Ta2O5

従来の光電子顕微鏡による化学状態観測は非破壊性と分解能がトレードオフの関係にあり、電極に埋もれたデバイス動作を敏感に観測するのは難しいとされていた。そこで、エネルギーの紫外連続波(CW)レーザー(4.66 eV)を用いることにより、観測するこれまでにない高分解能バルク敏感観測が実現された。本講演では、金属界面下のPEEM観測検出深さと空間分解能の関係について議論すると同時にデバイス評価有用性についても議論する。