2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[20a-224A-1~10] 3.7 レーザープロセシング

2018年9月20日(木) 09:00 〜 11:45 224A (224-1)

坂倉 政明(サウサンプトン大)、谷 峻太郎(東大)

11:00 〜 11:15

[20a-224A-8] 直交偏光したフェムト秒レーザーパルス対照射で形成されるジルコニアセラミックスの表面周期構造; 構造周期の遅延依存性

欠端 雅之1、屋代 英彦1、鳥塚 健二1 (1.産総研 電子光)

キーワード:フェムト秒レーザー、ジルコニアセラミックス、表面周期構造

イットリア安定化正方晶ジルコニア多結晶体(3Y-TZP)は優れた機械的特性を有するセラミックスであり医療部材や機械部材に用いられる。直交する偏光を持つダブルパルス照射でジルコニア表面に形成される微細周期構造について、構造周期、アブレーション深さ、面積等のパラメータが二つのパルスのフルエンスや遅延時間に対してどのように依存するか評価した。