[20a-225B-1~11] 【CS.4】 3.11 フォトニック構造・現象, 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学のコードシェアセッション

△ [20a-225B-9] 転写法による中赤外帯プラズモニック構造の作製及び表面光電界分布のナノスケールイメージング

〇(M1)湯浅 遼一¹、岡本 拓也¹、佐々川 昴¹、河野 行雄¹ (1.東工大未来研)

キーワード：近接場光、ブルズアイ構造、走査型近接場光顕微鏡

光の集中を実現する技術は非常に有用であり，プラズモニック構造は光の集中を実現するものの一種である．我々はプラズモニック構造について，ポリマーによる転写を用いた簡便なプロセスを用いて作製し，走査型近接場光顕微鏡（SNOM）を用いて中赤外帯における近接場イメージングを行った．イメージングとシミュレーションにおいて同様のパターンが観測され，SNOMが光学的構造の表面光電界分布の観測に有用であることを示した．