[20a-231A-1~10] 9.1 Dielectrics, ferroelectrics

[20a-231A-6] Transient capacitance of a MIM capacitor with CeO_xlayer

〇Kazuya Hisatsune¹, Takuya Hoshii¹, Iriya Muneta¹, Hitoshi Wakabayashi¹, Kazuo Tsutsui¹, Kuniyuki Kakushima¹ (1.Tokyo Tech)

Keywords:High dielectric material, MIM Capacitor

ICに大きな駆動電流が流れると電圧降下やノイズが発生する恐れがあるため，デカップリングキャパシタ(Decap)を取り付けて緩和をさせる必要がある ．これまでHfO₂を用いた高容量密度を有するDecapの報告があるが，更に高い誘電率材料を用いる必要がある．本研究では比誘電率28を有するCeO_x膜を用いた金属/絶縁膜/金属(MIM)キャパシタの作製と評価を行ったところ，容量の過渡的な変化を確認したので報告する．