The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

22 Joint Session M » 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

[20a-234B-1~10] 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

Thu. Sep 20, 2018 9:00 AM - 11:45 AM 234B (234-2)

Yoshiaki Nakamura(Osaka Univ.), Masahiro Nomura(Univ. of Tokyo)

11:30 AM - 11:45 AM

[20a-234B-10] Evaluation of Thermal Properties in SOI Film Covered with Oxide Film by Raman Spectroscopy

Ryo Yokogawa1,2, Motohiro Tomita1,3, Takanobu Watanabe3, Atsushi Ogura1 (1.Meiji Univ., 2.JSPS Research Fellow DC, 3.Waseda Univ.)

Keywords:Raman spectroscopy, SOI, Thermal conductivity

Siナノワイヤは熱伝導率が大幅に低下することが明らかにされ、その要因は酸化膜/Si界面に局在する無秩序な振動状態が関与していることが報告されている。我々はラマンによる熱特性評価を試み酸化膜を被覆したSOIを用いて熱伝導がどのように変化するか詳細に分析した。結果イオン照射と熱処理により薄膜内の温度上昇が抑制されており酸化膜/Si界面における熱伝導メカニズムの変化を反映していることを実測的に確認した。