2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[20a-234B-1~10] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

2018年9月20日(木) 09:00 〜 11:45 234B (234-2)

中村 芳明(阪大)、野村 政宏(東大)

11:30 〜 11:45

[20a-234B-10] ラマン分光法による酸化膜を被覆したSOI薄膜の熱伝導特性評価

横川 凌1,2、富田 基裕1,3、渡邉 孝信3、小椋 厚志1 (1.明治大理工、2.学振特別研究員DC、3.早稲田大理工)

キーワード:ラマン分光法、SOI、熱伝導

Siナノワイヤは熱伝導率が大幅に低下することが明らかにされ、その要因は酸化膜/Si界面に局在する無秩序な振動状態が関与していることが報告されている。我々はラマンによる熱特性評価を試み酸化膜を被覆したSOIを用いて熱伝導がどのように変化するか詳細に分析した。結果イオン照射と熱処理により薄膜内の温度上昇が抑制されており酸化膜/Si界面における熱伝導メカニズムの変化を反映していることを実測的に確認した。