2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[20a-PA5-1~14] 13.3 絶縁膜技術

2018年9月20日(木) 09:30 〜 11:30 PA (イベントホール)

09:30 〜 11:30

[20a-PA5-1] 多様な結晶構造を有するSiO2膜へのH2O分子透過

奥 友希1、戸塚 正裕1、佐々木 肇1 (1.三菱電機)

キーワード:酸化シリコン、耐湿性、分子軌道計算法

我々は、半経験的分子軌道計算法により、SiO2結晶(高温型クリストバライト、高温型トリデサイト、高温型石英)へのH2O分子の浸透を計算し、拡散障壁と透過障壁の値を導出した。 その結果、障壁は結晶構造と面方位の両方に依存することがわかった。 このことは、結晶構造および表面配向を最適化することによってSiO2結晶の耐湿性を改善できることを示している。