[20a-PA5-1~14] 13.3 絶縁膜技術

[20a-PA5-13] High-k/GeO₂/Ge構造に与えるPDA効果の検証

〇和知 祥太郎¹、渡邉 龍一郎¹、北原 義典¹、岩崎 好孝¹、山田 浩史¹、上野 智雄¹、並木 美太郎¹ (1.農工大院工)

キーワード：Ge、ゲルマニウム