[20a-PA5-1~14] 13.3 絶縁膜技術

[20a-PA5-8] MONOS型不揮発性メモリの電子保持特性

〇(M2)岸田 拓朗¹、小林 清輝¹ (1.東海大院工)

キーワード：電子保持特性、シリコン窒化膜