2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.9 テラヘルツ全般

[20p-212A-1~16] 3.9 テラヘルツ全般

2018年9月20日(木) 13:15 〜 17:30 212A (212-1)

鈴木 左文(東工大)、諸橋 功(情通機構)

16:00 〜 16:15

[20p-212A-11] フェムト秒レーザー加工による作製したモスアイ型THz反射防止構造の特性向上

余 希1、堀田 尚輝1、須藤 正明2、小野 晋吾1、裵 鐘石1 (1.名工大、2.IMRA America, Inc.)

キーワード:フェムト秒レーザー加工、テラヘルツ波反射防止構造

テラヘルツ(THz)帯では,光学材料のSiやGaAs等が高屈折率であるため,THz波に対する反射損失が大きい。反射防止のためには,モスアイ構造が効果的である。超短パルスレーザー加工は材料に関係なく微細周期構造を作製可能であり,THz帯の反射防止構造作製に適している。超短パルスレーザー加工によるSi基板へのモスアイ構造作製とこの構造の反射防止特性の評価を行ったので,本発表では,これらについて報告する。