2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[20p-222-1~23] 6.2 カーボン系薄膜

2018年9月20日(木) 13:15 〜 19:30 222 (222)

青野 祐美(防衛大)、針谷 達(豊橋技科大)、寺地 徳之(物材機構)、加藤 有香子(産総研)

14:00 〜 14:15

[20p-222-4] ダイヤモンドエピ薄膜の転位の解析

鹿田 真一1、松山 悠夏1、寺地 徳之2 (1.関学大理工、2.物材機構)

キーワード:転位、ダイヤモンド、ホモエピ薄膜

次世代省エネパワーデバイスにおいては、エピ膜転位低減が極めて重要である。本研究では、ホモエピ薄膜を成長し、転位の正確な特定を試みた。0°傾いた(001)基板上のエピでは、新たに発生した転位密度は240cm-2であった。3°傾斜では、新たに30cm-2の転位が生成されたことが分かった。酸素添加合成及び傾斜基板を用いた「Lateral成長」が、異常成長を抑制して低転位エピタキシャル層を成長するのに適していることを示している。