The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

Presentation information

Symposium (Oral)

Symposium » Current status and future prospect of atomic layer processes

[20p-223-1~11] Current status and future prospect of atomic layer processes

Thu. Sep 20, 2018 1:45 PM - 6:45 PM 223 (223)

Makoto Sekine(Nagoya Univ.), Takeshi Momose(Univ. of Tokyo), Daisuke Hojo(AIST), Kazuhiro Karahashi(Osaka univ.)

4:30 PM - 5:00 PM

[20p-223-6] Atomic Layer Etching: its Science and Technologies

Satoshi Hamaguchi1, Tomoko Ito1, Michiro Isobe1, Kazuhiro Karahashi1 (1.Osaka Univ.)

Keywords:atomic layer etching, ALE, self limiting

本講演では、ALEの概要を紹介したのち、ALEに不可欠な自己停止機構の物理的・化学的メカニズムについて議論する。自己停止機構は、エッチング対象となる物質と使用するプロセスによって大きく異なるため、近年、実用化が期待されるALE技術を例にあげ、その詳細を議論する。ALEは、高アスペクト比の溝(トレンチ)や穴(ビア)構造に対する非等方的エッチングプロセスばかりでなく、入射イオンの届きにくい構造における等方的なエッチングプロセスとしても期待されている。近年のこうした技術的課題とALEによる解決方法についても、その概要を議論する。