2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[20p-331-1~13] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月20日(木) 13:45 〜 17:15 331 (国際会議室)

塩島 謙次(福井大)、加藤 正史(名工大)

16:15 〜 16:30

[20p-331-10] N極性GaN HEMT構造のコンタクト抵抗の熱処理温度依存性

堀田 航史1、富塚 ゆみ子1、板垣 光祐1、眞壁 勇夫2、吉田 成輝2、宮本 恭幸1 (1.東工大工、2.住友電気工業)

キーワード:N極性GaN HEMT、コンタクト抵抗