2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » シリカガラスの最前線

[20p-432-1~8] シリカガラスの最前線

2018年9月20日(木) 14:00 〜 18:00 432 (432)

梶原 浩一(首都大)、斎藤 全(愛媛大)

14:45 〜 15:15

[20p-432-2] 接合したシリカガラス間の水の拡散

葛生 伸1 (1.福井大院工)

キーワード:シリカガラス、拡散、水酸基

OH濃度が異なるシリカガラスを接合したものを熱処理すると接合界面を通じてOH基の拡散が見られる。熱処理温度,時間を変えて熱処理したもの後のOH濃度分布をBoltzmann・俣野の方法とよばれる解析手段で解析したところ,各温度に置いてOH基の拡散係数はOH濃度に比例する結果を得た。この結果は,従来から考えられていた,水分子がシリカガラス骨格と反応と脱離を繰り返すというOH基の拡散モデルを裏付けるものである。