[21a-233-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

△ [21a-233-5] GeO₂下地層による固相成長Ge薄膜の高移動度化とプラスチック上展開

〇今城 利文¹、茂藤 健太¹、吉峯 遼太¹、末益 崇¹、都甲 薫¹ (1.筑波大学)

キーワード：ゲルマニウム、薄膜、固相成長