[21a-235-1~8] 7.1 X線技術

[21a-235-3] 化学機械研磨によるMEMS X線光学系の反射率の改善

〇藤谷 麻衣子¹、江副 祐一郎¹、石川 久美²、福島 碧都¹、沼澤 正樹¹、伊師 大貴¹、大坪 亮太¹、鈴木 光¹、永利 光¹、湯浅 辰哉¹、大橋 隆哉¹、満田 和久² (1.首都大理工、2.宇宙研)

キーワード：X線光学系、化学機械研磨、マイクロマシン技術