2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[21a-331-1~12] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月21日(金) 09:00 〜 12:15 331 (国際会議室)

成田 哲生(豊田中研)

12:00 〜 12:15

[21a-331-12] AlGaN/GaN 界面準位が分極接合基板上 p-MOSFET の電流特性に与える影響

鶴田 脩真1、星井 拓也1、中島 昭2、西澤 伸一3、大橋 弘通1、角嶋 邦之1、若林 整1、筒井 一生1 (1.東工大、2.産総研、3.九州大)

キーワード:GaN p-MOSFET