[21p-145-1~14] 13.3 絶縁膜技術

[21p-145-6] High-k/GeO₂/Geの作製と評価

〇渡邉 龍一郎¹、豊田 健一郎¹、和知 祥太郎¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.農工大工)

キーワード：半導体