[21p-145-1~14] 13.3 絶縁膜技術

[21p-145-8] 金属Hf/Si構造に対する化学溶液酸化における酸化選択性の検証

〇大場 裕貴¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.農工大院工)

キーワード：半導体